光化學氧化法對陰離子表面活性劑降解的初步研究

論文類型	基礎研究	發(fā)表日期	2014-10-14
來源	四川環(huán)境
作者	姜少紅,,楊勇,,季民
關鍵詞	陰離子表面活性劑(LAS) ; UV/ H2O2 ; 廢水處理
摘要	本試驗采用UV/ H2O2 光氧化法處理含有較高濃度陰離子表面活性劑(LAS)的模擬廢水, 研究了H2O2投加量、pH值、光照時間、紫外燈光強對LAS降解率的影響。

下載文檔

論文搜索

很多時候您的文章總是無緣變成鉛字。研究做到關鍵時，試驗有了起色時，是不是想和同行探討一下，工作中有了心得，您是不是很想與人分享，那么不要只是默默工作了，寫下來吧！投稿時，請以附件形式發(fā)至 paper@h2o-china.com ，請注明論文投稿。一旦采用，我們會為您增加100枚金幣。