UV/H2O2工藝對水中典型藥物卡馬西平的光化學降解研究

論文類型	技術與工程...	發表日期	2013-09-01
來源	中南大學學報
作者	鄧靖,邵益生,高乃云,周石慶,談超群,胡栩豪
關鍵詞	UV/H2O2 藥物卡馬西平降解
摘要	研究 H2O2投加量、卡馬西平初始濃度、UV 輻照強度、初始 pH 和共存陰陽離子對卡馬西平降解速率的影響。實驗結果表明：單獨 UV 輻照對卡馬西平基本沒有去除效果，而 UV/H2O2聯合工藝能夠有效地去除卡馬西平；卡馬西平的降解速率隨著 H2O2投加量的增大而增大，隨著卡馬西平初始濃度的增大而降低；增強 UV 輻照強度能夠顯著提高卡馬西平的降解速率；酸性和中性條件有利于 UV/H2O2工藝對卡馬西平的降解；水中陰離子對卡馬西平的降解存在不同程度的抑制作用，抑制程度遵循如下順序(由大至小)：?23CO，3

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